专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果1500938个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]纳米复合物有机自旋-CN200910231498.1无效
  • 韩圣浩;林亮;庞智勇;王丰功;方少杰 - 山东大学
  • 2009-12-15 - 2010-05-19 - H01F10/32
  • 纳米复合物有机自旋,属于自旋电子学技术领域。该自旋由三明治结构构成,顶电极是带有铝薄膜作保护层的过渡金属钴薄膜,底电极是镧锶锰氧薄膜,中间传输层是过渡金属钴与有机小分子八羟基喹啉铝的纳米复合物。该自旋的制备方法如下:用激光脉冲沉积方法在钛酸锶衬底上制备自旋的镧锶锰氧薄膜底电极;热蒸发制备过渡金属钴与八羟基喹啉铝的有机纳米复合物中间传输层;在有机纳米复合物中间传输层上制备一个过渡金属钴薄膜作为顶电极;在过渡金属钴薄膜顶电极上加热蒸发铝薄膜作保护层。
  • 纳米复合物有机自旋
  • [发明专利]一种制备双垂直自旋的方法及其结构-CN200410101847.5无效
  • 于广华;姜勇;腾蛟;王立锦;张辉;朱逢吾 - 北京科技大学
  • 2004-12-28 - 2005-07-20 - G11B5/39
  • 一种制备双垂直自旋的方法及其结构,采用玻璃或单晶硅基片,通过等离子体溅射、磁控溅射或者分子束外延生长手段制备而成的一种金属多层膜结构,然后通过照相平版印刷或电子束印刷、离子刻蚀的手段分别在金属多层膜的顶层和底层膜面制作出两个电极,使该自旋在工作时,信号电流的流动方向垂直于金属多层膜膜面。本发明的优点在于将电流垂直薄膜平面与磁各向异性易轴垂直薄膜面两个特征完美结合在一起大幅度的提高自旋的磁电阻效应;有效的改善了自旋的磁均匀性,使这种自旋材料加工到纳米级时,仍可保持单磁畴结构。
  • 一种制备垂直自旋方法及其结构
  • [发明专利]一种降低自旋薄膜矫顽力的方法-CN200710179580.5无效
  • 丁雷;滕蛟;于广华 - 北京科技大学
  • 2007-12-14 - 2008-05-21 - C23C14/58
  • 本发明提供了一种利用二次退火降低自旋薄膜矫顽力的方法,属于信息电子、功能材料领域。在磁控溅射仪中制备自旋薄膜,在真空退火炉中进行退火。退火顺序依次为在1000~3000Oe磁场下,在100~300℃温度下,保温0.5~3h后,降至室温;再在50~300Oe磁场下,在100~300℃温度下,保温0.5~3h;第一次退火时的磁场方向沿着自旋薄膜制备态时的易轴方向本发明的优点在于:利用两次退火,既提高了自旋薄膜在室温下的磁阻效应,又明显降低了薄膜的矫顽力。本发明对改进磁传感器的性能有重要的应用价值。
  • 一种降低自旋薄膜矫顽力方法
  • [发明专利]一种垂直型-异域有机自旋电子器件的制备工艺和应用-CN201910271349.1有效
  • 方梅;肖柱;李周;张桑箭;李浩 - 中南大学
  • 2019-04-04 - 2020-12-04 - H01L43/12
  • 本发明公开了一种垂直型‑异域有机自旋电子器件的制备工艺和应用,属于自旋电子学领域,本发明结合了横向器件与纵向器件的优点,一方面通过横向注入自旋极化电流,自旋极化电流横向注入有机材料,避免垂直结构电学短路问题;另一方面纵向探测电子自旋自旋扩散通道长度即为薄膜厚度,采用楔形有机薄膜,实现自旋扩散通道长度的纳米级连续可调,通过外加电场和磁场,多模式实现有机物中电子自旋的操控和利用。本发明垂直型‑异域有机自旋电子器件,可用于操控自旋扩散长度在纳米量级的材料中的电子自旋,在同一器件中多模式实现电子自旋的操控,能够实现有机自旋的磁阻效应、non‑local磁阻效应、自旋Hanle效应
  • 一种垂直异域有机自旋电子器件制备工艺应用
  • [发明专利]一种光响应的自旋电子器件及其制备方法-CN201910389022.4有效
  • 金立川;朱虹宇;贾侃成;何昱杰;唐晓莉;钟智勇;张怀武 - 电子科技大学
  • 2019-05-10 - 2021-03-26 - H01L43/04
  • 一种光响应的自旋电子器件及其制备方法,属于自旋电子功能器件技术领域。所述光响应的自旋电子器件,包括衬底,以及依次形成于衬底之上的磁性薄膜、半导体薄膜和重金属电极。本发明自旋电子器件,基于“磁性薄膜/半导体薄膜/重金属电极”异质结构,通过在磁性薄膜与重金属电极之间增加半导体光响应层,使自旋电子器件中的自旋流输运过程具备响应外界光照作用的能力。当光照射自旋电子器件时,会在半导体薄膜中产生光生载流子,改变“磁性薄膜/半导体薄膜/重金属电极”界面阻抗匹配,实现对自旋流从磁性层向半导体薄膜注入效率的调节;同时,光生载流子浓度影响自旋扩散长度,改变逆自旋霍尔电压信号,实现逆自旋霍尔电压对光照强度的检测。
  • 一种响应自旋电子器件及其制备方法
  • [发明专利]一种制备FePt赝自旋材料的方法-CN201610525029.0有效
  • 冯春;唐晓磊;尹建娟;蒋旭敏;于广华 - 北京科技大学
  • 2016-07-05 - 2017-09-22 - H01F41/18
  • 一种制备FePt赝自旋材料的方法,属于磁性材料或自旋电子学材料领域。本发明对铜锌铝Cu‑Zn‑Al记忆合金基片进行预拉伸处理、表面酸化去氧化皮处理以及表面抛光处理;然后,在上述Cu‑Zn‑Al基片上沉积薄膜材料,结构为铁铂FePt/钌Ru/铁铂FePt/钽Ta;沉积完毕后最后,对上述薄膜体系进行光刻处理,以获得纳米柱状阵列结构,引出电极。通过控制温度,控制薄膜体系的应力状态,进而实现高电阻状态和低电阻状态的切换,即赝自旋功能。本发明具有制备简单、控制方便的特点;不需要高成本的稀有金属或昂贵的附加装置,因此具有效率高、成本低等优点,适合应用于未来自旋电子学技术中。
  • 一种制备fept自旋材料方法
  • [发明专利]一种双交换偏置场型自旋的制备方法-CN201019087050.7无效
  • 唐晓莉;张怀武;荆玉兰;苏桦;钟智勇 - 电子科技大学
  • 2010-04-14 - 2010-10-06 - H01L43/12
  • 一种双交换偏置场型自旋的制备方法,属于磁性材料与元器件技术领域。首先采用薄膜沉积工艺并在外磁场作用下,制备双交换偏置场型自旋,其中交换偏置场大小不同,方向相同;然后通过振动样品磁场强度测试计测两个交换偏置场的大小;最后施加介于两个交换偏置场之间大小、方向相反的外磁场,同时在形成较小交换偏置场的铁磁层膜面沿交换偏置场方向施加脉冲电流;根据所施加的外磁场H和脉冲电流的大小的不同,即可改较小的偏置场的大小和方向,从而获得不同的双交换偏置场型自旋。本发明利用自旋转移效应来调制双交换偏置场型自旋中较小的交换偏置场的大小和方向,简化了制备步骤,增加了该种双交换偏置自旋应用的灵活性。
  • 一种交换偏置自旋制备方法
  • [发明专利]一种基于自旋塞贝克效应的热电转换器件结构-CN201710548329.5有效
  • 胡少杰;田祎龙;闵泰 - 西安交通大学
  • 2017-07-06 - 2019-05-21 - H01L35/26
  • 本发明公开一种基于自旋塞贝克效应的热电转换器件结构,包括基本U型结构;基本U型结构包括由下至上或者由上至下依次设置的第一磁性层、电极层和第二磁性层;第一磁性层由第一正自旋塞贝克系数磁性薄膜和第一负自旋塞贝克系数的磁性薄膜连接构成;第二磁性层由第二正自旋塞贝克系数磁性薄膜和第二负自旋塞贝克系数的磁性薄膜连接构成;第一正自旋塞贝克系数磁性薄膜和第二正自旋塞贝克系数磁性薄膜位于基本U型结构的左臂;第一负自旋塞贝克系数的磁性薄膜和第二负自旋塞贝克系数的磁性薄膜位于基本U型结构左右两部分的磁性层由自旋塞贝克系数异号的材料组成,可分别在电极层中产生不同方向的电势差并实现电势差串联叠加效果。
  • 一种基于旋塞贝克效应热电转换器件结构
  • [发明专利]一种自偏置的自旋波波导及其制备方法-CN201610770300.7有效
  • 钟智勇;张怀武;金立川;文天龙;廖宇龙;唐晓莉;苏桦 - 电子科技大学
  • 2016-08-30 - 2018-10-16 - H01P3/12
  • 一种自偏置的自旋波波导及其制备方法,属于自旋波器件技术领域。包括基片,依次形成于基片之上的永磁薄膜、绝缘介质薄膜、软磁薄膜和保护层形成的多层薄膜结构,所述多层薄膜结构在垂直于膜面的磁场中饱和磁化后,采用单极磁头的写入磁场局域翻转永磁薄膜的磁化方向,即可形成自偏置的自旋波波导本发明采用垂直各向异性的永磁薄膜与软磁薄膜形成交换‑弹性结构,由于永磁薄膜上下磁畴形成的磁通使软磁薄膜中的磁矩沿磁通方向整齐排布,这样,在没有偏置磁场的情况下就能形成自旋波波导,实现了自旋波波导的自偏置;其自偏置场的大小可通过永磁材料的种类及厚度调节,有利于实现集成化的自旋波波导,为集成自旋波器件的应用打下了基础。
  • 一种偏置自旋波导及其制备方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top